溅射法制备金属薄膜及其特性研究

溅射法制备金属薄膜及其特性研究

摘     要

随着市场对各种新型功能薄膜需求的日益增加，溅射技术在科学研究和工业生产领域获得迅速发展。为了解溅射法制备金属薄膜的过程及其特性研究,采用直流二极溅射设备在玻璃基片上镀金膜，并对所获得的金属薄膜的厚度、电学性能、均匀性、重复性等进行实验测试。使用称重法，分析了溅射膜沉积量随时间的变化规律,采用扫描电子显微镜，光学显微镜对金属膜的形貌进行表征.分析薄膜的台阶覆盖性、平整性、附着性等相关性质。 结果表明：在其它相同条件下，溅射时间和膜厚大致上呈一定的线性关系，膜厚是随着工作时间的加长单纯地呈增长趋势，而且所制的膜均匀性并不是很好，呈中心高向四周下降的趋势，其中心也具有较好的台阶覆盖性。

关键词：溅射 镀膜 金属薄膜 特性

目  录

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第一章     绪论 1

1.1  薄膜背景介绍 1

1.2  薄膜制作工艺介绍 1

1.3  研究内容 2

第二章     溅射工艺技术 3

2.1   溅射原理与主要方式 3

2.2   工艺参数对薄膜性质的影响 4

2.3   溅射特性 5

第三章     薄膜制备及其特性研究 6

3.1   薄膜制备 6

3.2   膜的特性研究 6

   3.2.1前处理对附着性的影响 6

   3.2.2膜厚 7

   3.2.3方块电阻 9

   3.2.4金属膜台阶覆盖性 11

第四章     结论 13

致谢 14

参考文献 15